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光電模擬實驗室 本實驗室購置之 光罩校準暨曝光精密定位感測系統,用於光蝕刻製程中之光罩圖形轉移,並使用超音波馬達與線性測量計(Linear gauge)進行三點式平面校正,可精確控制光罩與光阻之間的距離,其精確度可達奈米等級,可做為不同距離間次波長結構穿透光場 ...